認証実務の適正化へ、『測定管理体系認証規則』および『知的財産権管理体系認証規則』の解釈を公布

2026年06月16日、中国国家認証認可監督管理委員会（国家認監委）事務局は、『測定管理体系認証規則（MMS）』および『知的財産権管理体系認証規則（IPMS）』の解釈を公布しました。

本解釈は、2026年09月01日の規則全面施行に向け、各認証機関がその要件を正確に理解・遵守するための指針となるものです。実務担当者にとって留意すべき主なポイントは以下の通りです。

• 審査員の人的要件： 認証機関は、IPMS分野では6名以上の登録済み専任審査員と8名以上の専任特許代理士、MMS分野では30名以上の登録済み専任審査員の保持が義務付けられています。
• 公正性の確保： 利益相反を回避するため、認証対象組織に対して技術コンサルティング等のサービスを提供した人員は、2年間は当該組織の審査業務に従事できません。
• 審査手順の適正化： 審査時間や抽出審査の手順が詳細に規定されたほか、認証活動で収集された重要データは中国国内で保存することが義務化されました。

各認証機関は、本解釈に基づき速やかに内部規定の改訂および審査員の再研修を実施することが求められます。

参考情報

「〈測定管理システム認証規則〉解読」及び「〈知的財産管理システム認証規則〉解読」に関する通知

『測定管理体系認証規則』解釈

『知的財産権管理体系認証規則』解釈